俄罗斯宣布正生产光刻机:2024年350nm、7nm指日可待

俄罗斯宣布正生产光刻机:2024年350nm、7nm指日可待

11月4日消息,俄罗斯已经公开表示,自己正在研发光刻机,最快会在2024年有成果。按照俄罗斯工业和贸易部副部长Vasily Shpak的说法,2024年将开始生产350nm光刻机,2026年启动用于生产130nm制程芯片的光刻机设备。对于这样的行为,俄罗斯表示,目前全球只有两家公司生产此类设备——日本尼康和荷兰ASML,而他们要改变这个格局。

现在俄罗斯已经掌握了使用外国制造设备的65nm技术,但无法生产光刻机。由于外国公司被禁止向俄罗斯出口现代光刻设备,该国正在匆忙开发自己的生产设备。在这之前,圣彼得堡理工大学的研究人员开发出了一种“国产光刻复合体”,可用于蚀刻生产无掩模芯片,这将使“解决俄罗斯在微电子领域的技术主权问题”成为可能。

据介绍,其中一种工具的成本为500万卢布(当前约36.3万元人民币),另一种工具的成本未知。据开发人员称,传统光刻技术需要使用专门的掩膜板来获取图像。该装置由专业软件控制,可实现完全自动化,随后的另外一台设备可直接用于形成纳米结构,但也可以制作硅膜,例如用于舰载超压传感器。此外,俄罗斯大诺夫哥罗德策略发展机构发豪语,宣称俄罗斯科学院旗下应用物理研究所将会跌破所有人眼镜,在2028年开发出可以生产7纳米芯片的光刻机,还可击败ASML同类产品。

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来源:快科技

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